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Eagle XV真空腔内直接探测X射线相机
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型号:FA351XO-BN-CL

更新时间:2024-12-20  |  阅读:1794

详情介绍

Eagle XV真空腔内直接探测X射线相机

英国Raptor公司的Eagle XV系列相机是专门为真空特殊工作环境设计的,可以直接放置在真空腔室内。相机采用了Teledyne e2v公司的减薄背照式CCD芯片,100%的填充因子,可直接探测从真空紫外(极紫外)到软X-ray波段(2eV-20keV能量范围)。


Eagle XV真空腔内直接探测X射线相机


主要特性:P35X-ray

• X-ray直接探测

• 可整机放置在真空腔室内,提供完整真空馈通的解决方案

• 采用Teledyne e2v公司背照减薄CCD

• 探测能量1.2eV-20keV

• TEC深度制冷至-80℃,暗电流小于0.0004e-

• 超高动态范围高达93dB/43000:1






典型应用:

X-ray显微成像、断层影像、相衬成像和源特性、X-ray等离子诊断、晶体学、极紫外/真空紫外成像、全息成像和半导体光刻、高次谐波产生


>>X-ray衍射(XRD)

X-ray衍射是一种研究物质特性的技术,如大分子、晶体、粉末、 聚合物和纤维。 当X-ray穿过物质时,它们与原子中的电子相互作用,并分散开 来。如果原子是在平面上组织的(即物质是结晶的),并且原子之间 的距离与X-ray的波长大小相同,则会发生构造性和破坏性的干涉, 并形成衍射图案。根据所研究物质的种类,可以使用单色X-ray、粉 红束(窄带)X-ray或白束(宽带)X-ray。

X-ray衍射


>>极紫外(EUV)光刻

半导体工业使用波长从 365nm 到 248nm 到 193/157nm 的光 源,其特征尺寸小于100nm,但已达到光刻技术的极限。认识到这 一限制,该行业在过去几年中一直在寻找一种潜在的后继技术,以生 产小于100nm的特性。半导体工业研究的下一代光刻技术包括超视 距光刻、X-ray光刻、离子束投影光刻和电子束投影光刻。尽管EUV 光刻技术也有其挑战,但它经常被使用,因为它保留了上述光刻技术 (波长13.5nm)的外观和感觉,以及使用了相同的基本设计工具。 因此,直接探测X-ray相机为光刻系统工作中提供了好的诊断 和监控手段。

EUV光刻


>>软X-ray显微镜

软X-ray显微镜用于研究生物、材料科学和其它样品的元素组成 和结构。这些显微镜的波长范围在4.0埃(-3.0keV)到44埃(-300 eV)之间,能够实现数百埃的空间分辨率,比可见光显微镜的最大 分辨率高出约10倍。 软X-ray显微镜具有设计简单,能够在近自然环境中形成厚的含 水生物样品的高空间分辨率图像,而无需电子显微镜所需的耗时制 备的特点。由于生物样品主要由氢、碳、氧和氮组成,它们的主要 吸收边缘(除氢以外)位于碳(284eV,4.4nm)和氧(543eV, 2.3nm)吸收边缘之间的水窗中,软X-ray显微镜提供出色的光谱信 息,并提供高对比度图像。

软X-ray显微镜

水中软X-ray和生物样品中主要元素的吸收长度


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